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鉭靶被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、磁性存儲介質(zhì)以及耐磨、耐腐蝕器件等領(lǐng)域的鍍膜。

元素符號:Ta
純度:3N5+
形狀:平面靶;旋轉(zhuǎn)靶
外觀:深灰色金屬
典型密度:16.54g/cm3
常規(guī)尺寸:平面靶: 500x500x30mm
旋轉(zhuǎn)靶: L4000mm
其它尺寸可定制
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